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白井 理; 魚住 浩一*; 岩井 孝; 荒井 康夫
Journal of Applied Electrochemistry, 34(3), p.323 - 330, 2004/03
被引用回数:28 パーセンタイル:52.41(Electrochemistry)723, 773及び823Kにおいて、NpClを含むLiCl-KCl共晶溶融塩中での液体Cd及びBi電極上におけるNp/Npの電極反応をサイクリックボルタンメトリ-により検討した。溶融塩中のNp濃度が1wt.%以下で、溶融金属相中のNpが飽和していない場合には、Npの析出反応は、溶融塩中のNpの電極表面への拡散が律速段階となっていた。723, 773あるいは823Kにおける液体Cd電極上でのNp/Np系の酸化還元電位は、Mo電極でのそれに比べて、それぞれ0.158, 0.140及び0.126V正側の電位であった。これらの電位シフトは、NpCd(723K)及びNpCd(773及び823K)形成のためにCd相中のNpの活量が低下したためと考えられる。また、723, 773あるいは823Kにおける液体Bi電極上でのNp/Np系の酸化還元電位は、Mo電極でのそれに比べて、それぞれ0.427, 0.419及び0.410V正側の電位であった。Np-Cd系と同様に、これらの電位シフトは、NpBi形成のためにBi相中のNpの活量が低下したためと考えられる。
白井 理; 魚住 浩一*; 岩井 孝; 荒井 康夫
Analytical Sciences (CD-ROM), 17(Suppl.), p.959 - 962, 2002/03
723~823KのLiCL-KCl系における液体Cd及びBi電極上でのU/Uの電極反応をサイクリックボルタンメトリー,超電力測定及びクロノポテンショメトリーによって調べた。U析出反応では、塩中でのUの拡散が律速過程であった。しかし、U溶解反応は陽極波がブロードになることから若干遅いことがわかった。723~823Kでは、液体Cd上でのU/Uの酸化還元電位は、Mo電極上でのそれに比べて0.1V正側で現れた。これは、Cd相中でUCdが生成してUの活量が低下したためと考えられる。他方、LiCl-KCl系における液体Bi電極上でのU/Uの酸化還元電位は、0.3V正側でMo電極上でのそれに比べると現れた。このことは、Cd電極の場合と同様に、Bi中でUBiが生成することによるUの活量低下で説明できた。
坂村 義治*; 白井 理; 岩井 孝; 鈴木 康文
Journal of Alloys and Compounds, 321(1), p.76 - 83, 2001/05
被引用回数:57 パーセンタイル:89.52(Chemistry, Physical)金属あるいは窒化物などの新型燃料の乾式再処理ではLiCl-KCl/液体Cd系での分配挙動を利用した各元素の分離・回収やLiCl-CKl共晶塩中での電解による各元素の分離・回収が考えられている。特にLiCl/KCl共晶塩/Cd系でのPu等の分配挙動の基礎的な理解は重要である。本研究では、PuとAmのLiCl-KCl共晶塩/液体Cd系での分配挙動を、平衡電位との関係を調べながら明らかにした。特に、Amは塩中で、-1.45V以上では3価,-1.45V以下では2価で存在することが判明した。
大野 新一; 古川 勝敏
原子力工業, 20(4), p.53 - 56, 1974/04
金属材料と原子炉冷却材の界面反応は、多くの因子に支配されて複雑である。その界面反応に対する照射効果の研究の必要性、いかにして照射効果をとらえるかの問題に関する著者らの研究経過、実験結果の解釈と照射効果のモデルなどを説明し、金属腐食に対する照射効果を解明するための電気化学的方法を提案する。(依頼執筆)